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【国家科技进步奖】系列紫外光刻机

发布时间: 2023-01-12

来源: 试点城市（园区）

基本信息

合作方式： 技术许可
成果类型： 实用新型专利
行业领域：
高新技术改造传统产业
成果介绍
自主研制的单面接近接触式光刻机、双面光刻机、大面积光刻机、连续扫描光刻机、无掩模光刻机、步进投影光刻机、纳米压印光刻机等系列，拥有曝光图形质量好、光刻分辨力高、调平精度高等特点。设备自动化程度高，可满足 LED、光电探测器、应变片、MEMS、生物芯片、微光学元件、声表器件等多种微纳结构的制备需求，广泛应用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件的研制、生产、以及科研教学。
成果亮点
自主研制的系列紫外光刻机，拥有曝光图形质量好、光刻分辨力高、调平精度高等特点，可满足 LED、光电探测器、应变片、MEMS、生物芯片、微光学元件、声表器件等多种微纳结构的制备需求。研究成果获得了包括国家科技进步奖在内的省部及以上奖项 20 余项，光刻设备整体研发实力处于国内领先水平
团队介绍
团队是我国最早开展微纳加工装备研制的单位之一，完成了我国首台最小线宽为 0.8μm 的 g 线投影光刻机、首台最小线宽为 0.7μm的 i 线投影光刻机。近年来，项目团队在投影物镜、精密工件台、对准、检焦、分辨力增强等关键技术研究方面取得突破，研究成果获得了包括国家科技进步奖在内的省部及以上奖项 20 余项，光刻设备整体研发实力处于国内领先水平。
成果资料
产业化落地方案
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