集成电路专用气体纯化系统的研发及示范应用
价格 双方协商
地区: 辽宁省 大连市 甘井子区
需求方: 大连***公司
行业领域
高端装备制造产业,新能源产业,智能制造装备产业,智能电网产业
需求背景
国内新建集成电路生产线建设规模迅速,市场整体需求较大,但行业总体装备及成套系统国产率较低,气体纯化技术水平较差,长期依赖进口。针对集成电路生产线对高端气体的需求,项目旨在开展多元素复合纳米结构催化剂超高纯度、超大处理量、高精度设计、智能化操作系统软件平台、工艺模块化、杂质指标在线监控分析等技术研究,开发具有自主知识产权的智能型气体纯化系统,在满足国家标准工业气体的条件下,实现对氮、氢、氧、氩、氦等气体多种气体杂质(水,氧,总烃,颗粒物等)指标在线监控,纯化深度到1ppb以下、工艺运行参数精密控制和设备智能化等功能,满足集成电路生产线对气体指标的需求
需解决的主要技术难题
1、利用金属元素对不同杂质气体的化学吸附活性及活性位点的不同,通过特殊的制备方法使得单一金属形成纳米或纳米团聚体结构,实现杂质气体的吸附容量大,脱除深度高。
2、利用多种元素的复合协同作用使纳米粒子与周围环境形成强相互作用,增加催化剂的稳定性。
3、气体纯化系统在运行中,通过对气体原料及最终纯化后的气体的杂质含量实时在线监控,实时对系统运行参数进行智能调节,实现整个供气系统安全稳定运行。
期望实现的主要技术目标
1、气体纯度达到9N级别,最高供气能力达到6000m3/h。
2、至少3项以上的气体杂质实测值小于1ppb,在线指标连续稳定时间超过4320小时。
3、至少实现三种以上(存储器,晶圆制造,大尺寸硅片,TFT面板等行业)的产业化实际应用示范。
4、申请发明专利5项以上。
处理进度